El grabado químico es una forma de procesamiento que utiliza ácidos, bases u otros productos químicos para eliminar capas de un material, que es un proceso de fabricación altamente preciso que se utiliza para producir piezas metálicas de alta precisión; puede obtener fácilmente cualquier forma deseada de piezas metálicas de alta precisión.

Comparado con otros procesos de fabricación, Chemical Etching proporciona tolerancias muy estrechas y una alta repetibilidad para características que son demasiado pequeñas para lograr con los procesos de estampación convencionales, es más rentable, con un tiempo de entrega más corto, más flexibilidad de diseño y sin necesidad de desbarbar, porque elimina la necesidad de herramientas especiales o la migración de procesos. Es una opción óptima para la fabricación de piezas metálicas de precisión, independientemente de la creación de prototipos o la producción industrial.

El proceso de grabado químico:

1.Una lámina de metal se limpia químicamente para garantizar que esté libre de posibles contaminantes

2.La lámina está recubierta con una película resistente al agente químico llamado "fotoprotector"

3.El patrón a grabar se superpone en la lámina cubierta con fotoprotección, que luego se expone a la luz UV. El área que no está cubierta por el patrón grabado se activa con la luz UV y esto evitará que el material se grabe con ácido en esta área

4. La hoja se somete a una etapa de desarrollo en la que se retira la fotoprotección no expuesta, dejando áreas sin cubrir que serán grabadas por el ácido.

5. El material desarrollado pasa por el proceso de grabado donde se pulveriza con el grabador químico para grabar el patrón requerido en el metal

6.El material se limpia para eliminar la fotoprotección restante

Grabado continuo de bobina a bobina

Grabado de bobina

Grabado por volumen

Producción de grabado

Grabado de precisión

Aguafuerte de acero inoxidable

Aguafuerte De Aluminio

Aguafuerte de cobre

Grabado de metales

Tamaño mínimo de la característica: 1.2x grosor del material

Grosor mínimo: 0.0008 ″ (0.0203 mm)

Tolerancia de características: 10% del espesor del material

Grosor máximo: 0.0200 ″ (0.508 mm)

Anchura máxima de la pieza: 8 ″ (203 mm)

Longitud máxima de la pieza: 1,500 ′ (457 m)

Aplicaciones típicas para el grabado químico en diferentes industrias:

Electrónica y Semiconductor

Marcos de plomo

Plantillas de SMT

Latas de blindaje EMI / RFI

Calza, arandela, espaciador

Barras de bus

Circuitos flexibles

Disipadores de calor

Aperturas

Cuchillas quirurgicas

Lancetas

(Micro) Agujas

Resortes planos

Flexión

Rejillas de altavoz

Para obtener más información sobre nuestro proceso de grabado químico y para descubrir cómo nuestra experiencia puede apoyar su proyecto, no dude en contactarnos o visitar nuestro otro sitio web www.etchparts.com.